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详细信息
更多信息详见www.longsun.asia一、设备描述
快速退火炉又名RTP设备，此设备为型号AS-One系列，分为可以处理4"基片的AS-ONE100以及处理6"基片的AS-ONE150，更小的基片可使用基片托。主要用于大学，研究实验室以及年产量高达10000晶圆的小规模生产。
尺寸：AS-0NE100/AS-ONE150：530*800*1425mm
标配热电偶与高温计测量温度。在温度范围内，通过快速数字PID温度控制器，可获知精确的，可重复的热控制。
类似蛤蜊壳的外形设计，翻盖操作，便于取放基片，以及腔室的清洗。
二、型号介绍不锈钢水冷壁腔室壁真空快速退火炉(快速热处理炉)
具有4英寸(100 mm) 和 6英寸 (150 mm) 两种版本
三、性能和特征
- 可处理4-inch 及以下和 6-inch 及以下的晶圆
- 可适用大范围类型的基片：硅和化合物半导体晶圆，GaN /蓝宝石和碳化硅晶圆，多晶硅晶圆，玻璃，金属，高分子聚合物，石墨和碳化硅托盘等等。
- 设备应用具有：硒化、硫化、接触退火，注入退火，RTO (快速热氧化) ，RTN (快速热氮化) ，硅平滑，扩散，致密化和结晶化，石墨烯CVD，碳纳米管等。
- 不锈钢水冷腔壁技术，高工艺复现性，超洁净及无污染环境
- 高冷却速率，低记忆效应
- 具有真空能力，可选配分子泵
- 温度控制：高温计和热电偶控制+快速数字PID温度控制器
- 边缘高温计视口，确保用于化合物半导体和小型样品
- 基片托的温度控制
四、快速退火炉的具体参数
- 温度范围: 室温至1250°C（AS-One100）、室温至1450°C（AS-One100HT）、室温至1200°C（AS-One150）、室温至1300°C（AS-One150HT）、
- 升温速率：可达200°C/s（AS-One100），可达150°C/s（AS-One150）
- 特殊配置下冷却速率达 100°C/s（选配快速冷却装置）
- 可配5条带质量流量控制器（MFC）的工艺气路
- 标配一条吹扫气路
- 具有真空能力，配备干泵，可选配分子泵
指标特点 AS-One 100 AS-One 150 腔室材质 不锈钢水冷壁腔室 不锈钢水冷壁腔室 *大衬底直径 100mm（4”） 150mm（6”） 温度范围（标准）
温度范围（高温版本）RT to 1250°C
RT to 1450°CRT to 1200°C
RT to 1300°C温度重复性 ± 1°C ± 1°C 升温速率 0.1°C to 200°C/s 0.1°C to 150°C/s 灯数量/*大功率 12 / 30 kW 18 / 34 kW 温度控制 快速数字PID 快速数字PID 工艺气体管路 5 5 真空范围Roughing
真空范围Turbo10-3 Torr
10-6 Torr10-3 Torr
10-6 Torr应用 注入退火、欧姆接触退火(III-V and SiC)、Si碳化、RTO、RTN、致密和结晶、硒化、石墨烯CVD…… 装片方式 手动 手动
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北京朗铭润德光电科技有限公司
高温真空快速退火炉，磁控溅射设备，尾气处理设备，氧化炉，扩散炉，LPCVD，Flowlink阀门，椭偏仪，接触角测量仪和等离子清洗机，石墨纯化炉
法国Annealsys快速退火炉-RTPAS-One100
页面价格仅供参考，具体请联系报价价格 价格电议,您可以向供应商询价得到该产品价格- 产品型号：AS-One100
- 品 牌：法国Annealsys
- 所 在 地：北京
- 更新日期：2020-06-19
合计：1台总价：电议北京朗铭润德光电科技有限公司 地址： 北京市石景山区八大处路49号院点石商务1号楼903室内容声明：谷瀑为第三方平台及互联网信息服务提供者，谷瀑（含网站、客户端等）所展示的商品/服务的标题、价格、详情等信息内容系由店铺经营者发布，其真实性、准确性和合法性均由店铺经营者负责。谷瀑提醒您购买商品/服务前注意谨慎核实，如您对商品/服务的标题、价格、详情等任何信息有任何疑问的，请在购买前通过谷瀑与店铺经营者沟通确认；谷瀑上存在海量店铺，如您发现店铺内有任何违法/侵权信息，请在谷瀑首页底栏投诉通道进行投诉。
